PVD 涂層處理
OPT公司引入瑞士和歐洲PVD先進(jìn)涂層設(shè)備的高新技術(shù)公司，提供一流的PVD涂層服務(wù)和質(zhì)量上乘的進(jìn)口涂層機(jī)等設(shè)備。公司的涂層設(shè)備先進(jìn)，在涂層技術(shù)上處于國內(nèi)地位。業(yè)務(wù)遍及東莞、深圳、佛山、廣州等地，擁有技術(shù)過硬工程技術(shù)人員，保證工藝及設(shè)備穩(wěn)定性，從而保證產(chǎn)品品質(zhì)、交期、服務(wù)質(zhì)量。
我們認(rèn)識到，現(xiàn)代制造是一個(gè)不斷變化的景觀，所以我們不斷努力在PVD涂層技術(shù)的前沿。我們采用主要的PVD沉積方法：陰極電弧、脈沖電弧、過濾電弧、離子束鍍、反應(yīng)濺射、磁控濺射、HIPIMS等等。
此外，我們理解在尋求優(yōu)化工具、組件和產(chǎn)品的性能時(shí)存在廣泛的挑戰(zhàn)。為了幫助我們的客戶有效地競爭他們的市場，我們已經(jīng)開發(fā)了一系列PVD涂料，每個(gè)都針對特定的挑戰(zhàn)。
物理氣相沉積（PVD）是描述一系列真空鍍膜過程的術(shù)語。這些PVD涂覆工藝中常見的是蒸發(fā)（通常使用陰極電弧或電子束源）和濺射（使用磁增強(qiáng)源或“磁控管”，圓柱形或空心陰極源）。所有部件都是在工作壓力(通常為1010mbar)下在真空室中處理的，并且通常涉及在涂覆過程中對要涂覆有高能正電荷離子的襯底進(jìn)行轟擊，以促進(jìn)高膜密度。此外，在金屬沉積過程中，反應(yīng)性氣體如氮、乙炔或氧氣可被引入真空室，以產(chǎn)生各種復(fù)合涂層組合物。其結(jié)果是，涂層與基體之間具有非常強(qiáng)的結(jié)合力，并且膜的物理、結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能適合。
● 金屬陶瓷膜表現(xiàn)出很高的顯微硬度（1500～8000 HV），通常超過80 HC，這 取決于膜的組成。
● 涂層通常表現(xiàn)出低摩擦系數(shù)（0.1～0.35），這取決于成分。
● 這是一種加成工藝，平均膜厚為2～5μm（00008～0002）。
● 加工溫度相對較低（320°～800°F）
● 在相對高真空下（10～10毫巴）進(jìn)行。
● 視線涂層沉積
● 產(chǎn)生與基體的強(qiáng)物理結(jié)合。
● 適用于各種通用的工具/部件基板：合金鋼、工具鋼、HSS、HSCo、不銹鋼、碳化物等！
● 對于具有嚴(yán)格公差的部件（+/- 0001）是理想的
● 為了保持芯部硬度，不需要進(jìn)行后涂層熱處理。
● 優(yōu)良的鋒利邊緣：沒有過度涂層建立
● 涂層通常會(huì)復(fù)制現(xiàn)有的表面涂層。
